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26/8/28

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經濟日報

高明鐵結合光循科技獨家研發之Perfect Vertical Grating Coupler(PVGC)進一步突破傳統GC的物理極限,共同展現台灣供應鏈從「晶片設計精度」延伸至「自動化封裝精度」的完整實力

光循科技(Brillink)突破性 PVGC 面射型高密度光耦合陣列 :


在多通道、高密度I/O的下世代光互連趨勢下,光柵耦合器(GC)具備可於晶片任意位置佈局、支援晶圓級測試的天然優勢。光循獨家研發之Perfect Vertical Grating Coupler(PVGC)進一步突破傳統GC的物理極限:打破光柵高損耗宿命:以獨家專利結構優化光場轉換率,實現媲美乃至超越傳統邊緣耦合器(EC)的耦合效率。


2D陣列高密度I/O:擺脫EC受晶片邊長(Shoreline)限制的一維架構,可於晶片任意位置佈局,並以127µm 標準間距在單晶片實現120通道陣列。


原生支援晶圓級CP測試:可於切片前完成篩選,並無縫搭配高明鐵的自動化主動對位平台。


完整報導請詳:https://money.udn.com/money/story/5735/9717138




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